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熱門關(guān)鍵詞:高創(chuàng)特多晶硅材料平面圓靶材硅碳負(fù)極材料
硅靶材
硅靶材是一種重要的磁控濺射鍍膜靶源,隨著磁控濺射鍍膜技術(shù)快速發(fā)展,硅靶材的需求日益增加,市場(chǎng)前景非常廣闊。我公司硅靶材有尺寸規(guī)格齊全的平面靶材、圓形/圓環(huán)靶材、管狀旋轉(zhuǎn)靶材、球型靶材、異形靶材等各種產(chǎn)品,產(chǎn)品形位公差精度高,電阻率控制區(qū)間窄,**限度地保障了用戶同一工況下的產(chǎn)品品質(zhì)一致性。該技術(shù)源自2017-2021公司承擔(dān)的寧夏重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃東西部合作項(xiàng)目“適用于磁控電子濺射的硅基靶材制備工藝技術(shù)的研究”,并在此基礎(chǔ)上不斷創(chuàng)新開發(fā),產(chǎn)品向高純度、高密度、大尺寸、晶粒晶向精準(zhǔn)控制趨勢(shì)發(fā)展。
產(chǎn)品外觀精度達(dá)到:尺寸公差土0.1mm、形位公差<0.1mm,粗度優(yōu)于Ra3.2,表面色澤均勻、無(wú)針孔、無(wú)裂紋、無(wú)崩邊、無(wú)任何污染。
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